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반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템

MOQ: 1 단위
가격: Negotation
standard packaging: 나무 상자에 의해 싸여집니다
payment method: T/T, 웨스턴 유니온
Supply Capacity: 달 당 1000 유닛
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
FUNSONIC
인증
CE
모델 번호
FS620
프로덕션명:
초음파 정밀 스프레이 기계
빈도:
60KHz
MAX 출력:
1~15W
연속 살포량 최대:
20~1200ml/h/pcs, 확장 가능
효과적인 분사 폭:
2-260mm/개, 확장 가능
스프레이 균일성:
≥95%
용액의 점성:
≤30cps
입력 전압:
220V±10%/50-60Hz
강조하다:

초음파 리토그래피 코팅 시스템

,

광저항성 초음파 리토그래피 코팅 시스템

,

반도체 초음파 리토그래피 코팅 시스템

Product Description

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템


 
설명:


초음파 스프레이는 광 리토그래피 웨이퍼 가공에서 광 저항 코팅을위한 간단하고 경제적이며 재생 가능한 과정입니다.FUNSONIC의 반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템은 흐름 속도를 정밀하게 제어하기 위해 고급 층화 기술을 사용합니다., 코팅 속도 및 퇴적량. 저속 스프레이 폼핑은 너무 얇고 균일한 층을 생성하기 위해 정확하고 제어 가능한 패턴으로 분산 스프레이를 정의합니다.
FUNSONIC의 반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템은 더 균일한 코팅을 저장하는 장점이 있습니다.특히 높은 측면 비율의 굴곡과 V 모양의 굴곡 구조의 측면 벽 상단에 따라원심 회전으로는 부실의 바닥에 너무 많은 광 저항을 축적하지 않고 옆 벽을 따라 균일한 코팅을 저장할 수 없습니다.

 
 
매개 변수

 

제품 종류

초음파 정밀 스프레이 코팅 기계 실험실 데스크톱 유형

FS310

지능형 초음파 정밀 코팅 기계 데스크톱 유형

FS620

스프레이 노즐 작동 주파수 20~200KHz 20-200KHz (정상적으로 60100110120K를 사용)
노즐 전력 1~15W 1~15W
연속 분사 부피 최대 00.01-50ml/min 00.01-50ml/min
효과적 분사 폭 2~100mm 2~100mm
스프레이 균일성 ≥95% ≥95%
솔루션 변환율 ≥95% ≥95%
건조 필름 두께 20nm-100μm 20nm-100μm
용액의 점성 ≤30cps ≤30cps
온도 범위 1-60°C 1-60°C
원자화 입자 (중위 값) 10~45μm (디스틸링 물), 노즐의 주파수로 결정됩니다. 10~45μm (디스틸링 물), 노즐의 주파수로 결정됩니다.
디버션 압력 최대 ≤0.10MPA ≤0.15MPA
입력 전압 220V±10%/50-60Hz 220V±10%/50-60Hz
운동 모드 X + Y 두 축 완전 자동, Z 축 수동 조정 XYZ 3축, 독립적으로 프로그래밍
제어 모드 마이크로 컴퓨터 카드, 7인치 터치 스크린 + 버튼 FUNSONIC 스프레이링 제어 시스템, PLC 제어, 13.3 인치 풀 컬러 터치 스크린
제어 내용 초음파 분사, 액체 공급, 난방, 초음파 분산 및 기타 시스템 초음파 분사, 액체 공급, 난방, 초음파 분산 및 기타 시스템
액체 공급 방법 정밀 주입 펌프 정밀 주입 펌프
초음파 분산 시스템 (선택) 50ml, 40K, 생물학 샘플러 20ml 또는 50ml, 40K, 생물학적 품질 샘플러
초음파 분산 시스템의 등급 전력 200W,10A 100W


 

장점:

 

1. 다양한 표면 윤곽의 균일한 필름 커버.
2높은 측면 비율의 굴레를 우수한 균일성으로 코팅 할 수 있습니다.
3- 막히지 않는 분자 스프레이
4매우 균일한 단일 미크론 얇은 층을 저장 할 수 있습니다.
5반복성 성숙한 분사 과정.


   반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 0

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 1

 

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 2

 


 

 

 


 

 

 

 


 

 

 

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템

 

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 3

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 4

 

 

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반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템
MOQ: 1 단위
가격: Negotation
standard packaging: 나무 상자에 의해 싸여집니다
payment method: T/T, 웨스턴 유니온
Supply Capacity: 달 당 1000 유닛
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
FUNSONIC
인증
CE
모델 번호
FS620
프로덕션명:
초음파 정밀 스프레이 기계
빈도:
60KHz
MAX 출력:
1~15W
연속 살포량 최대:
20~1200ml/h/pcs, 확장 가능
효과적인 분사 폭:
2-260mm/개, 확장 가능
스프레이 균일성:
≥95%
용액의 점성:
≤30cps
입력 전압:
220V±10%/50-60Hz
최소 주문 수량:
1 단위
가격:
Negotation
포장 세부 사항:
나무 상자에 의해 싸여집니다
지불 조건:
T/T, 웨스턴 유니온
공급 능력:
달 당 1000 유닛
강조하다

초음파 리토그래피 코팅 시스템

,

광저항성 초음파 리토그래피 코팅 시스템

,

반도체 초음파 리토그래피 코팅 시스템

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반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템


 
설명:


초음파 스프레이는 광 리토그래피 웨이퍼 가공에서 광 저항 코팅을위한 간단하고 경제적이며 재생 가능한 과정입니다.FUNSONIC의 반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템은 흐름 속도를 정밀하게 제어하기 위해 고급 층화 기술을 사용합니다., 코팅 속도 및 퇴적량. 저속 스프레이 폼핑은 너무 얇고 균일한 층을 생성하기 위해 정확하고 제어 가능한 패턴으로 분산 스프레이를 정의합니다.
FUNSONIC의 반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템은 더 균일한 코팅을 저장하는 장점이 있습니다.특히 높은 측면 비율의 굴곡과 V 모양의 굴곡 구조의 측면 벽 상단에 따라원심 회전으로는 부실의 바닥에 너무 많은 광 저항을 축적하지 않고 옆 벽을 따라 균일한 코팅을 저장할 수 없습니다.

 
 
매개 변수

 

제품 종류

초음파 정밀 스프레이 코팅 기계 실험실 데스크톱 유형

FS310

지능형 초음파 정밀 코팅 기계 데스크톱 유형

FS620

스프레이 노즐 작동 주파수 20~200KHz 20-200KHz (정상적으로 60100110120K를 사용)
노즐 전력 1~15W 1~15W
연속 분사 부피 최대 00.01-50ml/min 00.01-50ml/min
효과적 분사 폭 2~100mm 2~100mm
스프레이 균일성 ≥95% ≥95%
솔루션 변환율 ≥95% ≥95%
건조 필름 두께 20nm-100μm 20nm-100μm
용액의 점성 ≤30cps ≤30cps
온도 범위 1-60°C 1-60°C
원자화 입자 (중위 값) 10~45μm (디스틸링 물), 노즐의 주파수로 결정됩니다. 10~45μm (디스틸링 물), 노즐의 주파수로 결정됩니다.
디버션 압력 최대 ≤0.10MPA ≤0.15MPA
입력 전압 220V±10%/50-60Hz 220V±10%/50-60Hz
운동 모드 X + Y 두 축 완전 자동, Z 축 수동 조정 XYZ 3축, 독립적으로 프로그래밍
제어 모드 마이크로 컴퓨터 카드, 7인치 터치 스크린 + 버튼 FUNSONIC 스프레이링 제어 시스템, PLC 제어, 13.3 인치 풀 컬러 터치 스크린
제어 내용 초음파 분사, 액체 공급, 난방, 초음파 분산 및 기타 시스템 초음파 분사, 액체 공급, 난방, 초음파 분산 및 기타 시스템
액체 공급 방법 정밀 주입 펌프 정밀 주입 펌프
초음파 분산 시스템 (선택) 50ml, 40K, 생물학 샘플러 20ml 또는 50ml, 40K, 생물학적 품질 샘플러
초음파 분산 시스템의 등급 전력 200W,10A 100W


 

장점:

 

1. 다양한 표면 윤곽의 균일한 필름 커버.
2높은 측면 비율의 굴레를 우수한 균일성으로 코팅 할 수 있습니다.
3- 막히지 않는 분자 스프레이
4매우 균일한 단일 미크론 얇은 층을 저장 할 수 있습니다.
5반복성 성숙한 분사 과정.


   반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 0

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 1

 

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 2

 


 

 

 


 

 

 

 


 

 

 

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템

 

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 3

반도체 광 저항 초음파 리토그래피 코팅 시스템 4

 

 

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