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30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력

30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력

MOQ: 1 단위
가격: Negotation
standard packaging: 판지로 포장하는
payment method: T/T, 웨스턴 유니온
Supply Capacity: 달 당 1000 유닛
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
FUNSONIC
인증
CE
모델 번호
FSW-3002-L
프로덕션명:
30Khz 산란 초음파 노즐 원자화
빈도:
30Khz
MAX 출력:
50W
자동화된 입자 크기 범위:
15-40μm
스프레이 흐름:
0.5-20ml
액체 점도:
<30cps
입자 크기:
< 12μm
적용:
플럭스 전면 분사에 적합
강조하다:

저전력 초음파 스프레이 스캐팅 노즐

,

반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐

,

30Khz 초음파 스프레이 스프레이 노즐

Product Description

30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력

설명:

분산형 초음파 노즐의 전형적인 응용은 반도체 칩에 광 저항 코팅으로 반도체 칩에 광 저항이 뿌려집니다.분산 유형의 초음파 노즐에서 방출되는 안개 회전 분산으로 인해, 균일한 광 저항 필름은 웨이퍼 평면뿐만 아니라 웨이퍼 미시 구조의 측면 벽과 모서리에도 형성 될 수 있습니다.분산 초음파 노즐은 또한 얇은 필름 태양 전지 코팅에 사용할 수 있습니다., 칼슘 티타나트 태양전지 코팅, AR 전송 및 반사 필름 코팅, 단열 필름 코팅, 초수소 소화 코팅, PCB 플럭스 코팅 및 기타 응용 프로그램.

매개 변수

모델 FSW-3002-L
이름 30Khz 분산 초음파 노즐 원자화
빈도 30Khz
원자화 입자 크기 범위 (μm) 15-40
스프레이 너비 ((mm) 40~80
스프레이 흐름 ((ml/min) 0.5-20
스프레이 높이 ((mm) 30~80
액체 점도 (cps) <30
입자 크기 (μm) <15
오차 압력 (Mpa) <0.05
적용 반도체 칩에 광항성 코팅에 적합합니다.

장점:

1큰 표면 분사, 분사 너비: 40-150mm

2코팅 균일성:> 95% 균일성

3원자재 절약: 원자재 활용률은 85% 이상이며 전통적인 두 액체 분사보다 4배 높습니다.

4코팅 두께 조절의 높은 정확성: 코팅 두께의 정확한 제어와 함께 20nm에서 수십 마이크로미터까지의 코팅을 준비 할 수 있습니다.

5미세한 분자

6입자의 균일 원자화

7간헐적으로 또는 지속적으로 분사 할 수 있습니다.

8아주 낮은 스프레이 흐름

9콧구멍을 막지 않습니다.

10. 반성식 노즐

11높은 정확성 및 제어 가능한 분사

30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력

30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력 030Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력 1

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30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력
MOQ: 1 단위
가격: Negotation
standard packaging: 판지로 포장하는
payment method: T/T, 웨스턴 유니온
Supply Capacity: 달 당 1000 유닛
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
FUNSONIC
인증
CE
모델 번호
FSW-3002-L
프로덕션명:
30Khz 산란 초음파 노즐 원자화
빈도:
30Khz
MAX 출력:
50W
자동화된 입자 크기 범위:
15-40μm
스프레이 흐름:
0.5-20ml
액체 점도:
<30cps
입자 크기:
< 12μm
적용:
플럭스 전면 분사에 적합
최소 주문 수량:
1 단위
가격:
Negotation
포장 세부 사항:
판지로 포장하는
지불 조건:
T/T, 웨스턴 유니온
공급 능력:
달 당 1000 유닛
강조하다

저전력 초음파 스프레이 스캐팅 노즐

,

반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐

,

30Khz 초음파 스프레이 스프레이 노즐

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30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력

설명:

분산형 초음파 노즐의 전형적인 응용은 반도체 칩에 광 저항 코팅으로 반도체 칩에 광 저항이 뿌려집니다.분산 유형의 초음파 노즐에서 방출되는 안개 회전 분산으로 인해, 균일한 광 저항 필름은 웨이퍼 평면뿐만 아니라 웨이퍼 미시 구조의 측면 벽과 모서리에도 형성 될 수 있습니다.분산 초음파 노즐은 또한 얇은 필름 태양 전지 코팅에 사용할 수 있습니다., 칼슘 티타나트 태양전지 코팅, AR 전송 및 반사 필름 코팅, 단열 필름 코팅, 초수소 소화 코팅, PCB 플럭스 코팅 및 기타 응용 프로그램.

매개 변수

모델 FSW-3002-L
이름 30Khz 분산 초음파 노즐 원자화
빈도 30Khz
원자화 입자 크기 범위 (μm) 15-40
스프레이 너비 ((mm) 40~80
스프레이 흐름 ((ml/min) 0.5-20
스프레이 높이 ((mm) 30~80
액체 점도 (cps) <30
입자 크기 (μm) <15
오차 압력 (Mpa) <0.05
적용 반도체 칩에 광항성 코팅에 적합합니다.

장점:

1큰 표면 분사, 분사 너비: 40-150mm

2코팅 균일성:> 95% 균일성

3원자재 절약: 원자재 활용률은 85% 이상이며 전통적인 두 액체 분사보다 4배 높습니다.

4코팅 두께 조절의 높은 정확성: 코팅 두께의 정확한 제어와 함께 20nm에서 수십 마이크로미터까지의 코팅을 준비 할 수 있습니다.

5미세한 분자

6입자의 균일 원자화

7간헐적으로 또는 지속적으로 분사 할 수 있습니다.

8아주 낮은 스프레이 흐름

9콧구멍을 막지 않습니다.

10. 반성식 노즐

11높은 정확성 및 제어 가능한 분사

30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력

30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력 030Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력 1

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