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프로덕션명: | 30Khz 산란 초음파 노즐 원자화 | 빈도: | 30Khz |
---|---|---|---|
MAX 출력: | 50W | 자동화된 입자 크기 범위: | 15-40μm |
스프레이 흐름: | 0.5-20ml | 액체 점도: | <30cps |
입자 크기: | < 12μm | 적용: | 플럭스 전면 분사에 적합 |
강조하다: | 저전력 초음파 스프레이 스캐팅 노즐,반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐,30Khz 초음파 스프레이 스프레이 노즐 |
30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력
설명:
분산형 초음파 노즐의 전형적인 응용은 반도체 칩에 광 저항 코팅으로 반도체 칩에 광 저항이 뿌려집니다.분산 유형의 초음파 노즐에서 방출되는 안개 회전 분산으로 인해, 균일한 광 저항 필름은 웨이퍼 평면뿐만 아니라 웨이퍼 미시 구조의 측면 벽과 모서리에도 형성 될 수 있습니다.분산 초음파 노즐은 또한 얇은 필름 태양 전지 코팅에 사용할 수 있습니다., 칼슘 티타나트 태양전지 코팅, AR 전송 및 반사 필름 코팅, 단열 필름 코팅, 초수소 소화 코팅, PCB 플럭스 코팅 및 기타 응용 프로그램.
매개 변수
모델 | FSW-3002-L |
이름 | 30Khz 분산 초음파 노즐 원자화 |
빈도 | 30Khz |
원자화 입자 크기 범위 (μm) | 15-40 |
스프레이 너비 ((mm) | 40~80 |
스프레이 흐름 ((ml/min) | 0.5-20 |
스프레이 높이 ((mm) | 30~80 |
액체 점도 (cps) | <30 |
입자 크기 (μm) | <15 |
오차 압력 (Mpa) | <0.05 |
적용 | 반도체 칩에 광항성 코팅에 적합합니다. |
장점:
1큰 표면 분사, 분사 너비: 40-150mm
2코팅 균일성:> 95% 균일성
3원자재 절약: 원자재 활용률은 85% 이상이며 전통적인 두 액체 분사보다 4배 높습니다.
4코팅 두께 조절의 높은 정확성: 코팅 두께의 정확한 제어와 함께 20nm에서 수십 마이크로미터까지의 코팅을 준비 할 수 있습니다.
5미세한 분자
6입자의 균일 원자화
7간헐적으로 또는 지속적으로 분사 할 수 있습니다.
8아주 낮은 스프레이 흐름
9콧구멍을 막지 않습니다.
10. 반성식 노즐
11높은 정확성 및 제어 가능한 분사
30Khz 반도체 렌즈 초음파 스프레이 스캐팅 노즐 저전력