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프로덕션명: | 초음파 분사 노즐 | 빈도: | 40KHz |
---|---|---|---|
MAX 출력: | 50W | 자동화된 입자 크기 범위: | 35~48μm |
스프레이 흐름: | 1~10ml/min, 2~20ml/min, 3~40ml/min | 액체 점도: | <30cps |
입자 크기: | < 12μm | 적용: | 플럭스 전면 분사에 적합 |
강조하다: | 분산 초음파 노즐 스프레이 코팅 기계,초음파 노즐 원자화 코팅 기계,칼슘 티타나트 태양전지 코팅 기계 |
40Khz 분산 초음파 노즐 원자화 코팅 반도체 칩 칼슘 티타나트 태양전지
설명:
산란 노즐은 저압 공기/가스를 사용하여 균일하고 넓은 스프레이 패턴을 생성하며 각 노즐은 최대 9까지 도달합니다.기판에서 거리에 따라 8 인치 (25 센티미터). 공기 흐름의 속도는 제품 또는 기판에 분쇄 스프레이의 낮은 또는 높은 영향을 허용 제어 할 수 있습니다. 연속으로 여러 노즐을 사용하여 무한한 폭을 달성 할 수 있습니다.스캐터 노즐 디자인은 가늘한 노즐에서 높은 반복성을 가진 넓은 패턴에 사용됩니다.
분산형 초음파 노즐은 사이클론 콘 스프레이가 있는 초음파 분자화 노즐입니다. 초음파 분자화 노즐 기술을 사용합니다.그리고 특별한 소용돌이 흐름 채널 디자인, 운반 가스는 균일한 회전 공기 흐름으로 변환되어 액체 안개의 초음파 분해가 사이클론 스프레이 형태로 분산됩니다.원자화기의 스프레이 영역을 확장초음파 노즐은 또한 수직 또는 구부러진 표면 및 날카로운 가장자리를 가진 다른 기판에 스프레이 할 수 있습니다.
분산형 초음파 노즐의 전형적인 응용은 반도체 칩에 광 저항 코팅으로 반도체 칩에 광 저항이 뿌려집니다.분산 유형의 초음파 노즐에서 방출되는 안개 회전 분산으로 인해, 균일한 광 저항 필름은 웨이퍼 평면뿐만 아니라 웨이퍼 미시 구조의 측면 벽과 모서리에도 형성 될 수 있습니다.분산 초음파 노즐은 또한 얇은 필름 태양 전지 코팅에 사용할 수 있습니다., 칼슘 티타나트 태양전지 코팅, AR 전송 및 반사 필름 코팅, 단열 필름 코팅, 초수소공성 코팅 코팅, PCB 플럭스 코팅 및 기타 응용 프로그램.
매개 변수
모델 | FSW-4002-L |
이름 | 40Khz 분산 초음파 노즐 원자화 |
빈도 | 40Khz |
원자화 입자 크기 범위 (μm) | 35-48 |
스프레이 너비 ((mm) | 20~80 |
스프레이 흐름 ((ml/min) | 1-10/2-20/3-40 |
스프레이 높이 ((mm) | 30 ~ 150 |
액체 점도 (cps) | <30 |
입자 크기 (μm) | <12 |
오차 압력 (Mpa) | <0.08 |
적용 | 플럭스의 전체 표면 분비에 적합합니다. |
장점:
1높은 안정성: 고성능의 티타늄 합금과 스테인리스 스틸로 만들어져, 강한 적응력, 부식 저항력, 압력, 소음, 노즐 마모 및 막힘,그리고 분자화된 입자의 높은 균일성.
2재료 절약 및 환경 보호: 스프레이의 영향은 매우 작으며 액체의 스프레이를 유발하지 않습니다.따라서 백 스프레이로 인한 원자재 낭비와 대기 오염을 줄입니다.초음파 스프레이링의 재료 활용률은 전통적인 두 유체 스프레이링의 4배 이상입니다.
3. 높은 제어 가능: 그것은 정확하게 원자화 흐름을 제어 할 수 있습니다, 낮은 흐름 연속 스프레이, 스프레이 모양은 제어 및 모양이 쉽습니다 (스프레이 조작자를 증가),산업 분야에 적용되는결합을 통해, 원자화 양은 모든 요구 사항을 충족 할 수 있습니다.
4. 간편한 유지: 액체는 자신의 중력 또는 저압 펌프를 통해 스프레이 머리로 전달되며 연속 또는 간헐적 인 원자화 작업을 실현합니다. 막힘, 마모가 없습니다.소음 없네, 압력, 그리고 움직이는 부품이 없습니다. 원자화 할 때, 냉각 물이 필요하지 않습니다. 에너지 소비는 작고 장비는 간단하며 실패율은 낮습니다.초음파 스프레이 머리는 청소 및 매일 유지 보수 무료 기능을 가지고 있습니다.
40Khz 분산 초음파 노즐 원자화 코팅 반도체 칩 칼슘 티타나트 태양전지